Chiński SMIC pokazał nowy, zaawansowany proces produkcji układów scalonych

Chińska firma SMIC pod koniec ubiegłego roku uruchomiła produkcję chipów w procesie 14nm FinFET, próbując w ten sposób konkurować z TSMC, Samsungiem i GF. Teraz producent testuje kolejną litografię o kodowej nazwie N+1. Proces ten co prawda nie jest tak zaawansowany jak 7nm od TSMC, ale i tak robi wrażenie. Względem układów wyprodukowanych przez SMIC w 14nm chipy wytworzone w N+1 oferują o 20% więcej mocy obliczeniowej zużywając przy tym do 57% mniej energii elektrycznej. Wzrosło również znacząco upakowanie tranzystorów. W najnowszej litografii na tej samej powierzchni można ich zmieścić o 63% więcej.

SMIC planuje uruchomić próbną produkcję procesorów w N+1 w czwartym kwartale 2020 roku, a masowa produkcja powinna ruszyć w 2021 lub 2022 roku. Po zakończeniu prac nad opisywaną litografią Chińczycy skupią się na jego następcy, czyli N+2, który ma być znacznie bardziej zaawansowanym procesem, korzystającym z EUV (Extreme ultraviolet lithography).