Litografia 3nm od Samsunga dopiero w 2022 roku
Epidemia wirusa COVID-19 zmusiła Samsunga do zmiany planów w kwestii wprowadzenia nowych procesów produkcji układów scalonych. Litografia 5nm z wykorzystaniem EUV powinna pojawić się zgodnie z harmonogramem, ale za to wstępna produkcja w 3nm na pewno zostanie opóźniona. Pierwotnie pierwsze układy scalone wytwarzane w tej technologii miały powstać przed końcem przyszłego roku, ale już teraz wiadomo, że taki scenariusz jest nierealny. Samsung liczy, że próbna produkcja ruszy dopiero w 2022 roku. Zwłaszcza, że wraz z wprowadzeniem procesu 3nm producent zmieni całkowicie budowę tranzystorów rezygnując z układów FinFET na rzecz GAAFET (Gate All Around).
Dzięki nowej technologii znacząco wzrośnie upakowanie tranzystorów, które mają być przy tym o 35% mniejsze niż ich odpowiedniki w 5nm. Dodatkowo bazujące na nich procesory zaoferują nawet o połowę mniejsze zużycie energii i do 33% więcej mocy obliczeniowej.
Dla porównania poniżej możecie znaleźć zestawienie prezentujące aktualnie posiadane i planowane litografie 7nm i 5nm w wykonaniu Samsunga i TSMC.
