Samsung opracował proces litograficzny 8nm

poprzednie następne

Samsung poinformował o zakończeniu etapu opracowywania procesu litograficznego 8nm LPP (Low Power Plus). Firma jest już gotowa do uruchomienia testowej produkcji pierwszych układów w nowym procesie. Proces spełnia wszelkie wymagania techniczne, a prace nad jego wdrożeniem zostały zakończone na trzy miesiące przed planowanym terminem. W porównaniu do dotychczasowego najbardziej zaawansowanego procesu litograficznego Samsunga (10nm LPP) nowy proces 8-nm ma zagwarantować 10% redukcję zapotrzebowania na energię elektryczną i 10% redukcję zajmowaniej powierzchni, w przypadku wytworzenia identyczego układu scalonego jak w procesie 10nm.

Firma wykorzysta nowy proces litograficzny m.in. do produkcji kolejnej generacji układów Exynos.

Jednocześnie jest to ostatni proces firmy Samsung przed przejściem do wytwarzania układów z wykorzystaniem naświetlania w technice EUV (Extreme Ultra-Violet). Extreme Ultra-Violet wykorzystuje do naświetlania masek fale UV o długości zaledwie 13.5 nanometra. Obecnie stosowana fotolitografia, czyli jeden z procesów podczas których nanoszone są warstwy połączeń, korzysta z fali UV o znacznie większej długości, co utrudnia wytwarzanie układów w bardzo niskich procesach litograficznych.

Pierwszym procesem litograficznym Samsunga wykorzystującym fotolitografię EUV będzie proces 7nm, który ma się odznaczać wyraźnie większą gęstością w porównaniu do procesów 8nm LPP i 10nm LPP.